咱们正处于以东说念主工智能、大数据为标记的第四次工业改进波浪中MK体育官网， 新动力汽车、锂电板和太阳能电板成为现时咱们产业的“新三样”。打造高质料发展的新产业，成为发展新质分娩力的要道。这为半导体行业创造了极大的商场需求量。为了支合手这种需求量的增长，咱们需要开发更多的芯片，以更高的质料，更快的速率，更完善的能效去合乎高技术产物的需求。
开发这些性能更高的芯片将需要更先进的原材料，对这些材料的纯度也有着以往任何时代齐要严苛的条件。任何可能带入的浑浊物，齐会对硅片变成难以拯救的挫伤，最终导致晶圆厂的效益镌汰。
湿法刻蚀
刻蚀（ETCH）是半导体工艺中对纯度条件最高的工序之一，是与光刻相干联的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，狭义说明即是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它样式好意思满腐蚀处理掉所需撤退的部分。
ETCH类型要分为干法和湿法两类，湿法刻蚀使用液体刻蚀介质，频繁是一种具有化学响应性的溶液或酸碱羼杂液。 这些溶液不错与待刻蚀材料发生化学响应，从而好意思满刻蚀。
Si+HNO3+6HF — H2SiF6+HNO2+H2+H2O
3Si+4HNO3+18HF—3H2SiF6+4NO+8H2O
湿法刻蚀要道响应化学式
上料→羼杂酸液腐蚀→风刀1→DI水冲洗→KOH腐蚀→风刀2→DI水冲洗→腐蚀→风刀3→Dl水冲洗→压缩空气风干→下料
刻蚀工艺
与干法蚀刻比拟，诚然湿法刻蚀的刻蚀速率较慢，精度低，况且还需要处理废液。但湿法刻蚀不错同期刻蚀多片硅片，是一种相对直率且本钱较低的按次，频繁在室温下使用液体刻蚀介质进行。且湿法刻蚀在半导体工艺中有着平素左右：磨片、抛光、清洗、腐蚀。
因此即使在最顶端的半导体工艺种，湿法刻蚀任然被平素使用。
过滤赋能湿法刻蚀工艺
颗粒、凝胶、金属是半导体产业中最典型的三种浑浊物，极端是在湿法刻蚀工艺中，这些浑浊物说明过多样阶梯过问到分娩才调中，以不同的样式影响产物、工艺和开垦，从而导致产物颓势。
湿法刻蚀有几个要道计较：刻蚀速率，遴选比，场合性。其中，刻蚀溶液的浓度越高、响应温度越高，薄膜的刻蚀速率就越快。
湿法刻蚀的主要使用到的化学剂均为强酸、强碱类具有强腐蚀性的溶液，针对刻蚀的最终条件：图形转机时的保真度，遴选比，均匀性和刻蚀的清洁，在遴选过滤器时需要严苛考据过滤材质的耐腐蚀性和化学兼容性。
咱们的湿法刻蚀过滤贬责决策
SENJOKIREY(ATL)
SENJOKIREY(ATL)系列产物领受全氟配件，平素适用于酸、碱特殊他工艺段化学料液，左右在中高流量条件的场所。
Ezinstall PFA Housing
Ezinstall PFA Housing由耐腐蚀性PFA材料制成，里面空间贪图最小破绽具有极低的液体残留量，故意于滤壳的清洗，内滤芯装配更换简单，无需东说念主力将滤芯插入滤壳内。
SENJOKIREY（SPP）系列滤芯
领受疏水聚四氟乙烯（PTFE）滤膜折叠制成，过滤面积大，通量高，压损低，使用寿命长。
STV系列聚偏氟乙烯硬件系列滤芯
STV系列滤芯领受聚四氟乙烯滤膜及全PVDF的撑合手导流骨架制作，具有极佳的有机、无机化学腐蚀性耐受性以及自然疏水性。
One-off Disposable
One-off Disposable具有超高流速的颗粒保留率MK体育官网，更换所需空间较小，快速装配，使用寿命长。
